Processing math: 88%

Статья

Исследование плазмы
2020. Т. 58. № 3. С. 327–335
Шавелкина М.Б., Амиров Р.Х., Кавыршин Д.И., Чиннов В.Ф.
Спектроскопическое исследование плазменной струи гелия с добавками углеводородов
Аннотация
В работе представлены результаты спектроскопического исследования конверсии ацетилена и метана в плазменной струе гелия, создаваемой плазмотроном постоянного тока. Режим работы плазмотрона соответствовал условиям, обеспечивающим высокий выход углеродных наноструктур. В спектрах излучения, зарегистрированных при поперечном наблюдении участка струи протяженностью 20 мм, следующего за выходным отверстием анодного канала плазмотрона, доминирующей компонентой в видимом диапазоне длин волн являются высокоинтенсивные полосы Свана молекулы C2. В спектрах наблюдаются атомарные линии водорода HI серии Бальмера от Hα до Hε многочисленные линии углерода CI от ультрафиолетовой 247.9 нм до инфракрасных 962966 нм и ряд линий гелия HeI. Спектральное определение осевых значений температуры плазменной струи обеспечили наблюдаемые линии ионизованного углерода CII283.7 нм, 392.0 и 426.7 нм. Совместный анализ спектров излучения и рассчитанного в саха-больцмановском приближении состава смеси позволил выявить характер пространственной неоднородности исследуемой He:C:H плазменной струи. Он проявился в отличии температуры электронов приосевой области струи, измеренной с использованием линий ионизованного углерода CII(Te(0)=1200014000 К), от колебательной и вращательной температур молекул C2(TV=TR5000 К), интенсивно излучающих на периферии струи. Измеренная по ширине линий Hβ и Hγ концентрация электронов, изменяющаяся на наблюдаемом участке струи в диапазоне ne=(42)×1016 см^{–3}, отвечает ионизационному равновесию в плазменной смеси \rm He : \rm C : \rm H с температурой электронов, близкой к T_e, измеренной по ионным линиям углерода.
Ссылка на статью:
Шавелкина М.Б., Амиров Р.Х., Кавыршин Д.И., Чиннов В.Ф. Спектроскопическое исследование плазменной струи гелия с добавками углеводородов, ТВТ, 2020. Т. 58. № 3. С. 327

High Temp. 2020, v.58, №3, pp. 309-316