Статья

Теплофизические свойства веществ
2025. Т. 63. № 3. С. 375–382
Фролов А.М., Бгашева Т.В., Петухов С.В., Тарасова М.В., Шейндлин М.А.
Молекулярный состав пара при лазерно-индуцированном испарении системы $\rm HfC$–$\rm TaC$ до $4550$ К
Аннотация
В работе представлены результаты исследования молекулярного состава пара над образцами карбидной системы $\rm HfC$–$\rm TaC$ при температурах более $4000$ К. Для исследования были синтезированы плотные однофазные образцы карбидной системы $\rm HfC$–$\rm TaC$ разного стехиометрического состава, содержащие $48{,}~63$ и $79$ мол. $\%~\rm TaC$. Лазерно-индуцированное испарение этих образцов изучено с использованием времяпролетного масс-анализатора. Впервые идентифицированы молекулярные формы пара при испарении образцов карбидной системы $\rm HfC$–$\rm TaC$. Для всех основных молекулярных форм пара измерены температурные зависимости их относительных парциальных давлений при температурах до $4550$ К. Определены соотношения давлений различных молекулярных форм пара системы $\rm HfC$–$\rm TaC$ и влияние на них температуры и мольной доли $\rm TaC$ в образцах. Показано, что скорость испарения образцов системы $\rm HfC$–$\rm TaC$ существенно ниже скорости сублимации графита в диапазоне температур $4200$–$4300$ К.
Ссылка на статью:
Фролов А.М., Бгашева Т.В., Петухов С.В., Тарасова М.В., Шейндлин М.А. Молекулярный состав пара при лазерно-индуцированном испарении системы $\rm HfC$–$\rm TaC$ до $4550$ К, ТВТ, 2025. Т. 63. № 3. С. 375

High Temp. 2025, v.63, №3, pp. 0-0