Статья
Исследование плазмы
2009. Т. 47. № 2. С. 163–174
Михайлов А.А., Витель И., Игнатович Л.М.
Новые характеристики экранирования в сильно неидеальной и пылевой плазме. Часть 3. Свойства и приложения
В настоящей статье обсуждены физический смысл и свойства ряда параметров экранирования, определенных в предшествующих статьях (часть 1 и часть 2) для однокомпонентных и двухкомпонентных систем. На основании данных указанных статей определены две новых характерных длины, которые довершают новую иерархию систем длин экранирования в плазме. Показано, что методы, разработанные в части 1 и части 2, позволяют получить результаты, которые применимы к сильно неидеальным газовым и пылевым плазмам и очень хорошо согласуются с имеющимися экспериментальными данными.
Ссылка на статью:
Михайлов А.А., Витель И., Игнатович Л.М. Новые характеристики экранирования в сильно неидеальной и пылевой плазме. Часть 3. Свойства и приложения, ТВТ, 2009. Т. 47. № 2. С. 163
High Temp. 2009, v.47, №2, pp. 147-157
Михайлов А.А., Витель И., Игнатович Л.М. Новые характеристики экранирования в сильно неидеальной и пылевой плазме. Часть 3. Свойства и приложения, ТВТ, 2009. Т. 47. № 2. С. 163
High Temp. 2009, v.47, №2, pp. 147-157