Статья

Исследование плазмы
2007. Т. 45. № 1. С. 12–18
Прозоров Е.Ф., Ульянов К.Н., Федоров В.А.
Влияние аксиального магнитного поля на процесс формирования анодного пятна в вакуумно-дуговом разряде с электродами из $\mathrm{CuCr}50$
Аннотация
Экспериментально изучено влияние внешнего аксиального магнитного поля на процесс образования анодного пятна в импульсном вакуумно-дуговом разряде в диапазоне токов $5$–$12$ кА в разрядном промежутке с электродами из $\mathrm{CuCr}50$. Для каждого амплитудного значения тока в зависимости от величины магнитного поля определены времена и токи, при которых образуется анодное пятно. Для каждого тока определено минимальное значение магнитного поля, препятствующего образованию анодного пятна. С использованием измеренных значений диаметров токового канала выполнен расчет температуры анода. Показано, что в условиях эксперимента нагрев анода недостаточен для заметного испарения, а образование анодного пятна связано с кризисом течения потока быстрых катодных ионов.
Ссылка на статью:
Прозоров Е.Ф., Ульянов К.Н., Федоров В.А. Влияние аксиального магнитного поля на процесс формирования анодного пятна в вакуумно-дуговом разряде с электродами из $\mathrm{CuCr}50$, ТВТ, 2007. Т. 45. № 1. С. 12

High Temp. 2007, v.45, №1, pp. 7-12