Статья

Архив, 1980, № 1

Исследования плазмы

1980. Т. 18. № 1. С. 40–45

Шапиро Г.И.

Об устойчивости плазмы тлеющего разряда в переменном электрическом поле

Теоретически исследовано влияние переменного (вращающегося, высокочастотного и др.) электрического поля на развитие ионизационно-колебательной неустойчивости, являющейся одной из возможных причин шнурования тлеющего разряда в молекулярных газах. Показано, что в переменном поле имеются два эффективных объемных механизма подавления неустойчивости: первый связан с пространственными по­воротами вектора поля; второй основан на значительных изменениях температуры электронов в переменном по амплитуде электрическом поле. Во вращающемся электрическом поле (когда вектор поля опи­сывает в пространстве конус с углом полураствора $\sim 55^{\circ}$) предельные значения колебательной энергии и мощности разряда, при которых плазма еще устойчива, повышаются в $10$–$15$ раз по сравнению с разрядом постоянного тока. При этом по крайней мере часть падающей ветви вольт-амперной характеристики становится устойчивой. В импульсно-частотном поле постоянного направления при высокой скваж­ности импульсов предельная мощность увеличивается в два–восемь раз. Более слабым стабилизирующим действием обладает ВЧ-поле (повыше­ние мощности на $10$–$80\%$) и комбинация ВЧ- и постоянного полей. Отмечается, что во вращающемся поле возможно эффективное подавле­ние одновременно нескольких видов неустойчивости.

УДК: 533.951.8
Scopus: 2-s2.0-0018813035

Ссылка на статью:
Шапиро Г.И. Об устойчивости плазмы тлеющего разряда в переменном электрическом поле, ТВТ, 1980. Т. 18. № 1. С. 40

High Temp. 1980, v.18, №1, pp. 36-41