Статья

Архив, 1996, № 3

Исследование плазмы

1996. Т. 34. № 3. С. 385–391

Полищук В.П., Ярцев И.М.

Вакуумные дуги на испаряющихся горячих анодах

Приведены экспериментальные и теоретические данные об области существования и основных характеристиках стационарных вакуумных дуг на горячих испаряющихся анодах из различных металлов ($\mathrm{Mg}$, $\mathrm{Cu}$, $\mathrm{Cr}$, $\mathrm{La}$, $\mathrm{Gd}$). Катодом дуги служила накаливаемая проволока из сплава $\mathrm{W}$–$\mathrm{Re}$. Качественный характер поведения дуг на различных анодах одинаковый, наиболее подробно исследована дуга на медном аноде при температуре $1500$–$1700$ K, ток дуги $1$–$10$ А. Температура анода изменялась с помощью электронно-лучевого подогревателя. Результаты расчета прианодного падения потенциала сопоставлены с экспериментальными данными. Показано, что исследованный разряд представляет интерес для плазменной технологии нанесения покрытий.

УДК: 533.9
WoS: A1996UV61800007

Ссылка на статью:
Полищук В.П., Ярцев И.М. Вакуумные дуги на испаряющихся горячих анодах, ТВТ, 1996. Т. 34. № 3. С. 385

High Temp. 1996, v.34, №3, pp. 379-385