Статья

Методы экспериментальных исследований и измерений
1992. Т. 30. № 6. С. 1181–1188
Мацевитый Ю.М., Ержанов Р.Ж., Тимченко В.М., Шерышев В.П.
Оптимизация параметров активационного отжига полупроводниковых пластин
Аннотация
На основании разработанной методики идентификации теплотехнологических параметров построена оптимальная стратегия управления режимом активационного отжига полупроводниковых пластин с учетом ограничений на максимальные градиент и перепад температур по толщине пластины. Исследована динамика распределения примеси в активированном слое пластины при различных режимах активационного отжига.

УДК: 536.24.02
WoS: A1992LR83100022
Ссылка на статью:
Мацевитый Ю.М., Ержанов Р.Ж., Тимченко В.М., Шерышев В.П. Оптимизация параметров активационного отжига полупроводниковых пластин, ТВТ, 1992. Т. 30. № 6. С. 1181

High Temp. 1992, v.30, №6, pp. 980-985