Статья

Архив, 1983, № 1

Исследование плазмы

1983. Т. 21. № 1. С. 22–29

Гусев В.В., Долгополов В.М., Словецкий Д.И., Шелыхманов Е.Ф.

Особенности спектра плазмы ВЧ-разряда при травлении алюминия

Проведено спектроскопическое исследование процесса травления алюминия в ВЧ-газовом разряде тетрахлорметана. На основе разработанной спектральной методики изучения механизмов процессов показано, что наиболее вероятным механизмом образования активных частиц в разряде является диссоциативное прилипание электронов. Установлено, что за инициирование процесса травления ответственна ионная компонента плазмы, а за травление чистого алюминия отвечают радикалы хлора. Исследовано влияние добавок кислорода, азота и воды на процесс травления. Объясняется зависимость скорости травления алюминия от площади поверхности образцов.

УДК: 621.382.002
WoS: A1983RK54800005

Ссылка на статью:
Гусев В.В., Долгополов В.М., Словецкий Д.И., Шелыхманов Е.Ф. Особенности спектра плазмы ВЧ-разряда при травлении алюминия, ТВТ, 1983. Т. 21. № 1. С. 22

High Temp. 1983, v.21, №1, pp. 19-25